例:評估一四分之一波片的光譜特性:

參數為：QWM@500,??? 12L???? 基底:GLASS(1.52)

層材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).

Evaluation：新建工作目錄：File_Problem，出現問題目錄(Problem directory),輸入目錄名稱，單擊OK.

打開Datebase窗口并輸入基底和層材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出現Datebase

單擊Substrate或Layer Material可分別輸入基底和層材料，基底輸入：單擊NEW，輸入基底名稱

單擊OK,再在Re(n)欄輸入基底折射率1.52, 再單擊OK

然后在Datebase窗口雙擊GLASS或單擊選中GLASS再單擊Load。即輸入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。

同理，在Datebase窗口單擊Layer Material，再輸入層材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。單擊Design，再單擊New輸入設計名稱，單擊OK出現Design窗口，輸入層數12，中心波長500：

單擊OK，再Load該設計。Analysis_T&R&Phase，產生Evaluation圖：

在圖上單擊右鍵，選中Axis出現分析選項窗口

可調節X和Y軸，單擊Apply即生效。單擊Plots

在Char欄下把T改為R，單擊Apply即可將圖輸出形式由透過改為反射。如圖：

上圖為垂直入射，我們同樣可以顯示有角度時的圖形，Analysis_Options，再單擊Plots（或在圖形上單擊右鍵再選中Plots）。

單擊Add，輸入角度，顏色。單擊Apply。如圖：

保存：Data_Save Design。

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